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ASML：从飞利浦弃儿到光刻之王
ASML高歌猛进于2017年推出了TWINSCANNXE:3400B，将光刻机的制程（即最小的电路栅格间距离）从7纳米推到了5纳米。而由此，ASML的光刻霸主地位也最终确定。光刻机发展要另辟蹊径？
光刻机从诞生到现在，经历了多次迭代，发展出了多种应用技术，为了应对不断发展的应用需求，新的技术高峰和难题也在等待业界去攀登和攻克。对华禁售ASML光刻机，对芯片国产化影响有多大
2021年，全球半导体行业总销售额达5500亿美元。其中，作为全球最大、发展最快的芯片半导体销售市场，彭博数据显示，过去4个季度，每个季度增长最快的20家芯片产业公司中，平均有19家来自中国大陆。再次被争抢的光刻机，不可复制的ASML
没有光刻机，就没有现代的芯片行业。半导体行业对资金的需求本来就大，光刻机产业也不是一场可以速战速决的战争。摘下光刻机这个颗“明珠”，我们势在必行。光刻机三巨头的殊途同归
面对越来越火热的芯片产业，ASML在EUV道路上一路狂奔，佳能和尼康却“独辟蹊径”，试图在独特路线上通过差异化来获取竞争优势。光刻机巨头ASML的周期逆袭史
如果你仔细翻阅ASML的发展史，你会看到无数个处于绝境的时刻，以及无数个绝境逢生的时刻，是很难，但总有办法。「芯片荒」背后的创业挑战和机遇
一台光刻机可能有十万多个零部件，其中的零部件也来自全球各国。材料和零部件的全球分布也让这个产业时常面临不确定性带来的波动，很容易就断了。
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