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中国光刻机多路线发起围攻
我们相信，在教、研、企的紧密合作下，中国EUV光刻机突围，或已越来越近，正如台媒所说，万事俱备只欠东风，我们拭目以待。光刻技术，走下「神坛」
光刻机，向来被视为半导体制造的命脉。但近期多家芯片巨头释放的信息显示，未来光刻技术可能不再是唯一选择，即便是很难抢到的High-NA EUV，也多处于“闲置”状态。第四代半导体，破晓时刻
全球首颗第四代半导体氧化镓8英寸单晶，刷新了氧化镓单晶尺寸的全球纪录。这一成果，也标志着中国氧化镓率先进入8英寸时代。分析师解读阿斯麦「爆雷」
由于财测下调，阿斯麦美股ADR在周二遭遇暴跌，最终收跌16.26%至730.43美元，创下了1998年以来的最大单日跌幅。投资界24h | 俄罗斯宣布造出首台350nm光刻机； 95后，一举融资70亿；安徽引导金一举要投7家GP
公司背后，是一位95后华人少年Alexandr Wang。19岁那年，他从麻省理工学院退学，和同样从卡内基梅隆大学退学的Lucy Guo创办了Scale AI。都说AI烧钱，但Scale AI却成为全...全球光刻机巨头，一夜跌没1968亿
4月17日，光刻机巨头阿斯麦发布了2024年第一季度财报。财报显示，公司一季度销售额为52.9亿欧元，同比下降22%，环比下降27%；净利润为12.24亿欧元，环比下降40%。High-NA EUV光刻机入场，究竟有多强？
英特尔获得的全球首台High-NA EUV光刻机不仅标志着该公司在半导体制造领域的一大进步，也展示出其在推动先进光刻技术发展方面的决心和能力。EUV光刻机，大结局？
瑞利判据一直是光刻机发展的根本遵循，被光刻产业界奉为“金科玉律”。当前的光刻机发展已经进入高NA(Numerical aperture，数值孔径)的EUV光刻时代，制程可达2nm及以下，预计2025年...
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