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EUV
EUV
EUV最新资讯,投资界全方位播报EUV相关话题,全面解读EUV投资、融资、并购等动态。
芯片半导体
EUV新局,巨头们的攻守之道
人工智能芯片需求猛增,极紫外光刻(EUV)技术制约生产。美光、三星、SK海力士路线各异,佳能、俄罗斯等也在探索新技术 。
EUV
人工智能芯片
半导体
半导体产业纵横
2025年03月24日 15时
芯片半导体
「ASML新光刻机,太贵了!」
ASML 是唯一一家生产制造最复杂半导体所需设备的公司,对其产品的需求是该行业健康状况的风向标。
EUV
台积电
半导体
半导体行业观察
2024年05月15日 11时
芯片半导体
半导体设备巨头,怎么看?
半导体设备大厂纷纷发布了最新财报,我们一起来看看这些行业巨头的财报表现,以及对于行业未来走势的预期和看法。
ASML
半导体
光刻机
EUV
半导体行业观察
2024年02月04日 10时
芯片半导体
台积电,万亿晶体管
先进封装是台积电走向万亿晶体管的必然倚仗,除此以外,台积电还将依赖新的沟道材料、EUV等多种技术以实现万亿的目标。
台积电
EUV
半导体
芯片
半导体行业观察
2023年12月28日 12时
芯片半导体
EUV光刻,日本多路出击
无论是在光刻胶、掩膜材料、化学机械抛光材料还是其他关键材料和设备方面,日本企业都展现出了强大的实力和优势。
日本
半导体材料
光刻胶
EUV
半导体行业观察
2023年12月27日 11时
芯片半导体
与EUV相比,这一光刻技术更具发展潜力
整个半导体行业所采用的光刻技术可以分为两大类:掩膜光刻和直写光刻(以LDI为主)。
制造芯片
EUV
直写光刻技术
半导体产业纵横
2023年06月25日 10时
芯片半导体
颠覆EUV光刻,不让ASML独美
光刻是大批量半导体制造的核心工艺。一旦突破了光刻工具的限制,您仍然可以通过转向各种多重图案化方案来继续缩放单个特征尺寸。
光刻
EUV
台积电
半导体行业观察
2023年03月07日 09时
芯片半导体
EUV光刻太贵,替代方案被考虑
目前业界认为,EUV加上先进的193i技术,如SADP和SAQP,将能够继续扩展到上述5纳米技术以下。
EUV
NIL
DSA
替代品
半导体行业观察
2022年11月04日 13时
光刻机三巨头的殊途同归
面对越来越火热的芯片产业,ASML在EUV道路上一路狂奔,佳能和尼康却“独辟蹊径”,试图在独特路线上通过差异化来获取竞争优势。
光刻机
ASML
EUV
半导体行业观察
2022年05月23日 09时
从ASML年报看半导体产业的未来
随着芯片工艺制程的不断演进,芯片的制造变得越来越复杂。当今最先进的处理器基于Logic N5节点(5nm),包含数十亿个晶体管。下一代芯片设计将包括更先进的材料、新的封装技术和更复杂的3D设计。
芯片
ASML
EUV
半导体行业观察
2022年02月17日 10时
三巨头决战EUV光刻胶
EUV光刻胶争夺,未来的输赢还有待观察,因为两种路线都都有好处,但毫无疑问,一场新的战斗已经打响。
EUV
光刻胶
半导体行业观察
2021年11月22日 12时
美国为啥没有光刻机?
在光刻机的发展历程中,有前赴后继的各国厂商,美国发明,日本发扬,荷兰成为最终赢家。
光刻机
EUV
贝尔实验室
半导体行业观察
2021年11月11日 14时
挑战EUV光刻?NIL靠谱吗!
芯片制造离不开光刻机,且制程越先进,其重要性越凸出,占芯片制造总成本比例也越高。
芯片
EUV
NIL
半导体行业观察
2021年10月28日 16时
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