英国多孔氮化镓 (GaN) 半导体材料技术研发商Porotech已于上月完成种子轮融资，本轮融资金额300万英镑，由专注于科技领域早期项目投资的Speedinvest领投，过往投资方 IQ Capital、Cambridge Enterprise、Martlet Capital 和 Cambridge Angels 跟投。Porotech成立于2018年4月，曾于2019年底完成首轮150万英镑融资。Porotech CEO兼联合创始人朱彤彤博士介绍，本轮融资将主要用于：进一步开发新产品，行业客户和业务拓展以及团队扩充。
(投资界)
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